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準(zhǔn)分子激光氣體

準(zhǔn)分子激光預(yù)混氣

工業(yè)技術(shù)的升級(jí)轉(zhuǎn)型需要平衡日益增長的性能需求與加工速度及制造成本之間的矛盾。準(zhǔn)分子激光的誕生，以其高光子能量所稱著，在對(duì)突破材料限制需求越來越迫切的時(shí)代，準(zhǔn)分子激光器再次站在了尖端工業(yè)激光解決方案的最前沿。作為當(dāng)今最有效、最可靠的脈沖紫外激光技術(shù)的代表，準(zhǔn)分子激光器有效地推進(jìn)了諸如半導(dǎo)體、AMOLED平板顯示、薄膜、硅底板加工、有機(jī)金屬沉淀、高溫超導(dǎo)、刻蝕、材料研究、汽車制造、生物醫(yī)療、光纖、鉆石打標(biāo)設(shè)備及可替代能源等多種成長型工業(yè)中的技術(shù)革新。準(zhǔn)分子激光氣體是用于準(zhǔn)分子激光設(shè)備中的激光發(fā)生器的關(guān)鍵氣體

具體的配比和包裝物和準(zhǔn)分子激光設(shè)備的品牌和型號(hào)相關(guān)：

品牌	機(jī) 型	波長	準(zhǔn)分子激光氣體
ATL	ATL ARF-1	193 nm	F2,Ar,Xe,Ne
ATL	ATL KRF-1	248 nm	F2,Kr,Xe,Ne
TUI	CTFTS-ARFV 2.2	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	CTFTS-KRFV 2.1	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	CTFTS-KRFV 2.2	248 nm	F2,Kr,He,Xe,Ne
	CTMD-ARFV 2.0	193 nm	F2,Ar,He,O2,Ne
	CTMD-XECLV 2.1	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	CTMN-ARFV 2.0	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	CTMN-ARFV 2.1	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	CTMN-KRFV 1.0	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	CTMN-KRFV 2.0	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	CTMN-XECLV 2.0	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	CTMN-XECLV 5.0	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	CTMN-XEFV 1.1	450nm~520nm	F2,Xe,He,Ne
	CTMN-XEFV 1.2	450nm~520nm	F2,Xe,He,Ne
GAM Laser	EX5 ArF	193 nm	F2,Ar,He,O2,Ne
	EX5 KrF	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	EX5 XeCl	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	EX10	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	EX50	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	EX100	193 nm	F2,Ar,He,Ne
Photomedex	XeCl	308 nm	HCl,Xe,Ne
Photoscribe	ArF	193 nm	F2,Ar,Ne
Photoscribe	KrF	248 nm	F2,Kr,Ne
PotomacPhotonics	ArF	193 nm	F2,Ar,Ne
PotomacPhotonics	KrF	248 nm	F2,Kr,Ne
Spectranetics	XeCl	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne